電子廠廢氣凈化處理

電子廠廢氣處理本產品利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體如：氨、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構，使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

惡臭氣體利用排風設備輸入到本凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同分解氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

電子廠廢氣凈化處理利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧進行氧化反應，*達到有效脫臭及殺滅細菌的目的。

電子廠廢氣凈化處理技術特點 ：

1、UV光束能量高，可以與大部分廢氣、惡臭氣體反應； 

2、使用過程中電能直接轉化成光能，不會產生電火花，安全性較高，電器和氣體為隔離狀態； 

3、設備占地小、設備只耗電，運行費用低。

注：

（1）惡臭物質能否被裂解，取決于其化學鍵鍵能是否比所提供的UV光子的能量要低。

（2）裂解反應的時間極短（＜0.01s），氧化反應的時間需2-3s。

（3）提供的UV光子總功率不夠或者含氧量不足，會因為裂解或氧化不*而生成一些中間副產物，從而影響凈化效率。對于高濃度大分子的有機惡臭物質體現得較為明顯。

（4）UV光解凈化的長期穩定、高效